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深度剖析紫外線臭氧清洗機(jī)裝置

更新時間:2024-09-05      瀏覽次數(shù):446

深度剖析紫外線臭氧清洗機(jī)裝置

一、概述

該裝置是一種UV臭氧清洗機(jī),可以對各種半導(dǎo)體工藝進(jìn)行干燥處理??梢赃M(jìn)行有機(jī)物去除和表面改性,例如光刻膠灰化以及硅和藍(lán)寶石晶圓清洗。配備紫外線燈、臭氧發(fā)生器和加熱臺,紫外線照射、臭氧和熱量之間的相互作用可以實現(xiàn)高效的清潔和表面改性,而不會對基材造成電氣損壞。

二、特征

1.由于同時使用紫外線 (UV)、高濃度臭氧 (O?) 和載物臺加熱器的熱量,因此可以實現(xiàn)高效清潔。

2.離子或電子不會對元件造成損壞。

3.由于配備了使用非貴金屬催化劑的臭氧分解器,因此不需要臭氧處理設(shè)備。

4.由于大氣壓處理,不需要真空系統(tǒng)。

5.一鍵即可實現(xiàn)自動操作。

三、應(yīng)用實例

1.光刻膠灰化、圓盤

2.親水處理

3.硅、化合物半導(dǎo)體、晶體、ITO薄膜、透鏡等的清洗。




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